@misc{Sikora_Andrzej_The_2019,
 author={Sikora, Andrzej and Janus, Paweł and Sierakowski, Andrzej},
 contributor={Urbańczyk, Wacław. Redakcja},
 identifier={DOI: 10.5277/oa190116},
 year={2019},
 rights={Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)},
 publisher={Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej},
 description={Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1, s. 177-185},
 language={eng},
 title={The impact of the light exposure on the morphological properties of selected photoresists},
 type={artykuł},
 keywords={optyka, photolitography, polymer degradation, atomic force microscopy (AFM)},
}