@misc{Dobrzański_Leszek_A._The_2015,
 author={Dobrzański, Leszek A. and Szindler, Marek and Szindler, Magdalena and Hajduk, Barbara and Kotowicz, Sonia},
 contributor={Urbańczyk, Wacław. Redakcja},
 identifier={DOI: 10.5277/oa150412},
 year={2015},
 rights={Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)},
 publisher={Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej},
 description={Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 4, s. 573-583},
 language={eng},
 title={The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films},
 type={artykuł},
 keywords={optyka, thin film, aluminum oxide, atomic layer deposition},
}