@misc{Zubel_Irena_Micromirrors_2011, author={Zubel, Irena and Rola, Krzysztof}, access={Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku}, contributor={Gaj, Miron. Redakcja}, contributor={Urbańczyk, Wacław. Redakcja}, address={Wrocław}, year={2011}, rights={Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)}, description={Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 417-422}, publisher={Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej}, language={eng}, title={Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching}, type={artykuł}, keywords={optyka, micro-opto-electro-mechanical systems (MOEMS), micromirrors, silicon anisotropic etching}, }