@misc{Zubel_Irena_Micromirrors_2011,
 author={Zubel, Irena and Rola, Krzysztof},
 access={Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku},
 contributor={Gaj, Miron. Redakcja},
 contributor={Urbańczyk, Wacław. Redakcja},
 address={Wrocław},
 year={2011},
 rights={Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)},
 description={Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 417-422},
 publisher={Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej},
 language={eng},
 title={Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching},
 type={artykuł},
 keywords={optyka, micro-opto-electro-mechanical systems (MOEMS), micromirrors, silicon anisotropic etching},
}