The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films - Dobrzański, Leszek A.; Szindler, Marek; Szindler, Magdalena; Hajduk, Barbara; Kotowicz, Sonia (Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, 2015)
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 4, s. 573-583
Keywords: optyka; thin film; aluminum oxide; atomic layer deposition