Kucharska, Barbara ; Kulej, Edyta ; Kanak, Jarosław
Współtwórca:Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Temat i słowa kluczowe:optyka ; multilayers Cu/Ni ; X-ray reflectometry (XRR) ; atomic force microscopy (AFM) ; roughness
Opis:Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 881-888
Abstrakt: Wydawca:Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Miejsce wydania: Data wydania: Typ zasobu: Źródło:<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Język: Powiązania:Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Prawa:Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Prawa dostępu:Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Lokalizacja oryginału: