Struktura obiektu
Tytuł:

Malter effect in thin ITO films

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Autor:

Olesik, Jadwiga ; Olesik, Zygmunt

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Temat i słowa kluczowe:

optyka ; indium tin oxide (ITO) ; photon emission ; field effect ; electron emission

Opis:

Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 903-914

Abstrakt:

The subject of the study was field influence on electron emission into vacuum from ITO films deposited on glass surface. The films were deposited onto both surfaces of the glass and examined using the Malter effect controlled by electric field. One of the layers was the field electrode and the other was treated as the electron emitter. The bias voltage was applied to the field electrode. The analysis was carried out at a pressure of 10–5 Pa. Dependences of the secondary emission coefficient on the bias voltage and energy distributions of secondary electrons were determined. The diagrams obtained are characterized by high non-monotonic behaviour. The voltage pulse amplitude spectra were recorded in the multichannel amplitude analyzer. It has been found that pulses count depends exponentially on the bias voltage. The emission efficiency at the same inducing field is affected by the state in which the sample was before the measurement. This means that the field induced electron emission shows hysteresis-like behaviour. The existence of this effect proves that the electric field causes some irreversible changes in the electron emitting ITO layer.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2009

Typ zasobu:

artykuł

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska

×

Cytowanie

Styl cytowania: