Exposition time analysis of AlGaN/GaN HEMT fabrication by electron beam lithography
Tytuł publikacji grupowej: Autor:Indykiewicz, Kornelia ; Paszkiewicz, Bogdan ; Paszkiewicz, Regina
Współtwórca: Temat i słowa kluczowe:optyka ; electron beam lithography (EBL) ; device fabrication ; exposition time reduction
Opis:Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1, s. 161-166
Wydawca:Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Miejsce wydania: Data wydania: Typ zasobu: Identyfikator zasobu: Źródło:<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Język: Powiązania:Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019 ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Prawa:Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Prawa dostępu:Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Lokalizacja oryginału: