Whang, Allen J. ; Chung, Chi-Kuei
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 33, 2003, nr 4, s. 627-634
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 33, 2003 ; Optica Applicata, Vol. 33, 2003, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Apr 5, 2018
167
165
https://dbc.wroc.pl/publication/44728
Edition name | Date |
---|---|
Accurate interference pattern analysis module of automatic measurement system | Jan 16, 2019 |
Frączek, Ewa Budzyń, Grzegorz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Patra, Ardhendu S. Khare, Alika Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Woźniak, Władysław A. Kurzynowski, Piotr Zdunek, Marzena Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Masajada, Jan Gaj, Miron. Redakcja
Rodríguez-Zurita, G. Vázquez-Castillo, J. F. Toto-Arellano, N. I. Calderón-Hernández, G. Barojas-Gutiérrez, E. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kaczmarek, Paweł R. Rogowski, Tomasz Antonczak, Arkadiusz J. Abramski, Krzysztof M. Wilk, Ireneusz. Redakcja Gaj, Miron. Redakcja
Chmelik, Radim Lovicar, Luděk Harna, Zdeněk Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Jaroszewicz, Leszek R. Krajewski, Zbigniew Teisseyre, Roman Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja