Kucharska, Barbara ; Kulej, Edyta ; Wróbel, Anna
Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4, s. 725-736
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa120404 ; oai:dbc.wroc.pl:55964
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 15, 2019
Nov 30, 2018
100
95
https://dbc.wroc.pl/publication/91021
Edition name | Date |
---|---|
Thermal stability of the Cu/Ni multilayer system in X-ray diffraction and scanning microscopy examinations | Jan 15, 2019 |
Kucharska, Barbara Wróbel, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kucharska, Barbara Kulej, Edyta Kanak, Jarosław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Reben, Manuela Burtan-Gwizdała, Bożena Cisowski, Jan Grelowska, Iwona Sayed Yousef, El Bukalska, Julita Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kasperkowiak, Małgorzata Strzemiecka, Beata Voelkel, Adam Drzymała, Jan. Redakcja
Gębara, Piotr Pawlik, Piotr Kulej, Edyta Wysłocki, Jerzy J. Pawlik, Katarzyna Przybył, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jagoszewski, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stádník, B. Jirásková, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Woźnicka, G. Kruszewski, J. Gutkowski, M. T. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja