Title:

Three-dimensional microstructures of photoresist formed by gradual gray-scale lithography approach

Group publication title:

Optica Applicata

Creator:

Luo, Ningning ; Gao, Yiqing ; Zhimin, Zhang ; Mengchao, Xiao ; Huaming, Wu

Subject and Keywords:

optyka ; gradual gray-scale lithography ; DMD pixel error ; axicon array ; microlens array

Description:

Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4, s. 845-852

Publisher:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Place of publication:

Wrocław

Date:

2012

Resource Type:

artykuł

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

doi:10.5277/oa120417

Source:

<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link

Language:

eng

Relation:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Rights:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Access Rights:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Location:

Politechnika Wrocławska