Three-dimensional microstructures of photoresist formed by gradual gray-scale lithography approach
Tytuł publikacji grupowej: Autor:Luo, Ningning ; Gao, Yiqing ; Zhimin, Zhang ; Mengchao, Xiao ; Huaming, Wu
Temat i słowa kluczowe:optyka ; gradual gray-scale lithography ; DMD pixel error ; axicon array ; microlens array
Opis:Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4, s. 845-852
Wydawca:Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Miejsce wydania: Data wydania: Typ zasobu: Format: Identyfikator zasobu: Źródło:<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Język: Powiązania:Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Prawa:Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Prawa dostępu:Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Lokalizacja oryginału: