Obiekt

Tytuł: Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2019-04-06

Data dodania obiektu:

2019-04-06

Liczba wyświetleń treści obiektu:

16

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl/publication/118373

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Podobne

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji