Wilk, Ireneusz. Redakcja ; Gaj, Miron. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 25, 1995, nr 4, s. 319-324
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 25, 1995 ; Optica Applicata, Vol. 25, 1995, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Jun 29, 2018
21
17
https://dbc.wroc.pl/publication/53484
Edition name | Date |
---|---|
Simplified model to explain the lateral focus displacement during high-power laser material processing | Jan 16, 2019 |
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Wilk, Ireneusz. Redakcja Gaj, Miron. Redakcja
Cojocaru, E. Wilk, Ireneusz. Redakcja Gaj, Miron. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Kazimierz. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja