Kruk, Andrzej ; Jany, Benedykt R. ; Owczarczyk, Karolina ; Madej, Dominika
Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 2, s. 355-364
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa190215 ; oai:dbc.wroc.pl:109435
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019 ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Apr 9, 2021
Apr 9, 2021
100
https://dbc.wroc.pl/publication/151383
Edition name | Date |
---|---|
On the possibility of using arc plasma melting technique in preparation of transparent yttria ceramics | Apr 9, 2021 |
Kruk, Andrzej Wajler, Anna Mrózek, Waldemar Zych, Łukasz Gawlik, Wojciech Brylewski, Tomasz Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Tsoi, P. Gololobov, N. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Siwulski, Stanisław Nocuń, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Pisarska, Joanna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Bao, Ying Lan, Jingheng Miao, Yu Zhang, Dawei Gao, Xiumin Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Sieradzka, Karolina Wojcieszak, Damian Kaczmarek, Danuta Domaradzki, Jarosław Kiriakidis, George Aperathitis, Elias Kambilafka, Vicky Placido, Frank Song, Shigeng Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Borkowska, Agnieszka Domaradzki, Jarosław Kaczmarek, Danuta Gaj, Miron. Redakcja
Rudno-Rudziński, Wojciech Ryczko, Krzysztof Sęk, Grzegorz Syperek, Marcin Misiewicz, Jan Pavelescu, Emil-Mihai Gilfert, Christian Reithmaier, Johann Peter Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja