Cui, Li ; Liu, Yi ; Yu, Mei ; Jiang, Gangyi ; Fan, Shengli ; Wang, Yigang
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2, s. 205-214
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Oct 16, 2017
36
29
https://dbc.wroc.pl/publication/41662
Edition name | Date |
---|---|
A super depth of field height measurement based on local disparity | Jan 16, 2019 |
Liu, Yi Yu, Mei Cui, Li Jiang, Gangyi Wang, Yigang Fan, Shengli Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Fan, Shengli Yu, Mei Jiang, Gangyi Wang, Yigang Wang, Wei Li, Wenda Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Czaińska, Monika Przekoracka-Krawczyk, Anna Naskręcki, Ryszard van der Lubbe, Rob Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Dębińska, Emilia Styszyński, Andrzej Naskręcki, Ryszard Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Brenk-Krakowska, Alicja Szady, Milena Naskręcki, Ryszard
Byeong-mook Chung Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wang, Qing Ding, Yi Li, Hong-wei Wang, Meng Liu, Hai Tan, Ce Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Xu, Jing Liu, HanXing He, Bo Hao, Hua Li, YiQiu Cao, MingHe Yu, ZhiYong Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja