Whang, Allen J. ; Chung, Chi-Kuei
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 33, 2003, nr 4, s. 627-634
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 33, 2003 ; Optica Applicata, Vol. 33, 2003, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
5 kwi 2018
158
154
https://dbc.wroc.pl/publication/44728
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Accurate interference pattern analysis module of automatic measurement system | 16 sty 2019 |
Frączek, Ewa Budzyń, Grzegorz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Patra, Ardhendu S. Khare, Alika Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Rodríguez-Zurita, G. Vázquez-Castillo, J. F. Toto-Arellano, N. I. Calderón-Hernández, G. Barojas-Gutiérrez, E. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kaczmarek, Paweł R. Rogowski, Tomasz Antonczak, Arkadiusz J. Abramski, Krzysztof M. Wilk, Ireneusz. Redakcja Gaj, Miron. Redakcja
Masajada, Jan Gaj, Miron. Redakcja
Woźniak, Władysław A. Kurzynowski, Piotr Zdunek, Marzena Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Chmelik, Radim Lovicar, Luděk Harna, Zdeněk Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Tyszkiewicz, Cuma Pustelny, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja