Skipirzepski, Piotr ; Nowak, Piotr
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 28, 1998, nr 3, s. 173-182
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 28, 1998 ; Optica Applicata, Vol. 28, 1998, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Jun 12, 2018
43
40
https://dbc.wroc.pl/publication/45512
Edition name | Date |
---|---|
Optimization of the optical granularity measurement conditions of model photographic layers | Jan 16, 2019 |
Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Latacz, Leszek Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Rajkowski, Bogumił Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Rajkowski, Bogumił Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Latacz, Leszek Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Latacz, Leszek Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Nowak, Piotr Rajkowski, Bogumił Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Drobnik, Agnieszka Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja