Qin, Cui ; Shen, Weikang ; Zhao, Jing ; Yu, Huilong ; Xu, Enming
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2, s. 163-172
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa150203 ; oai:dbc.wroc.pl:37640
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Oct 16, 2017
57
48
https://dbc.wroc.pl/publication/41657
Edition name | Date |
---|---|
Polarization dependence of patterning effects in quantum well semiconductor optical amplifier-based wavelength conversion | Jan 16, 2019 |
Lu, Youxi Wang, Fei Gu, Jun Shi, Lun Peng, Mengmeng Huang, Jingxin Kang, Wen Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ab-Rahman, Mohammad Syuhaimi Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kravtsov, Yury A. Bieg, Bohdan Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Patra, Ardhendu S. Khare, Alika Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Rodríguez-Zurita, G. Vázquez-Castillo, J. F. Toto-Arellano, N. I. Calderón-Hernández, G. Barojas-Gutiérrez, E. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Baraket, Zina Zaghdoudi, Jihene Kanzari, Mounir Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Xu, Xiaobin Zhang, Zhihao An, Minghua Teng, Fei Zhang, Zuchen Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Fitio, Volodymyr M. Bobitski, Yaroslav V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja