Obiekt

Tytuł: Properties of transparent oxide thin films prepared by plasma deposition

Autor:

Domaradzki, Jarosław ; Borkowska, Agnieszka ; Kaczmarek, Danuta ; Prociów, Eugeniusz L.

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja

Opis:

Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3, s. 425-430

Abstrakt:

In this paper, thin films of TiO2 were deposited onto (100) oriented silicon and glass substrates using low pressure hot target reactive magnetron sputtering (LP HTRS) method. X-ray diffraction (XRD) and optical transmission measurements have been applied to study the influence of substrate type on the microstructure and optical properties of the prepared thin films, respectively. Thin films exhibit the TiO2-anatase crystalline state, which could be confirmed by the appearance of peaks of (101) orientation.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2005

Typ zasobu:

artykuł

Identyfikator zasobu:

oai:dbc.wroc.pl:72805

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005 ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2019-09-17

Data dodania obiektu:

2019-09-17

Liczba wyświetleń treści obiektu:

0

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl/publication/140905

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Obiekty

Podobne

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji