Wyszukiwanie zaawansowane ?

Obiekt

Certain effects of field and light induced electron emission from indium thin oxide (ITO) layers
Pobierz

Tytuł: Certain effects of field and light induced electron emission from indium thin oxide (ITO) layers

Autor:

Olesik, Jadwiga

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja

Opis:

Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3, s. 485-494

Abstrakt:

Indium thin oxide (ITO) layers were deposited onto both surfaces of a glass substrate. One of the layers was a field electrode and negative voltage has been applied to it in order to create the internal electric field. Another one was treated as the electron-emitting layer. The studies were carried out in the 10–7 hPa vacuum. As a result of applying polarizing voltage Upol and illuminating by a quartz lamp, photoelectrons are released and enter the electron multiplier. Voltage pulses from the multiplier are recorded in the multichannel amplitude analyzer, creating so-called voltage pulse amplitude spectrum. Dependence of electron emission yield on both the intensity of internal field and illumination was measured. With the increasing the Upol voltage, the count frequency of pulses grows monotonically. At higher Upol (> |–1 kV|) this dependence is exponential. After illuminating the yield of the field induced electron emission grows as well. The cascade multiplication of electrons, which is responsible for the high emission yield, develops under the influence of the electric field of the order of 1 MV/m. The Gauss approximation suggests that the internal electric field in the interface between a glass and ITO layer has to be taken into account.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2005

Typ zasobu:

artykuł

Identyfikator zasobu:

oai:dbc.wroc.pl:72837

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005 ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Temat i słowa kluczowe:

optyka semiconductor electric field optical properties indium tin oxide (ITO) MIS- structure field effect electron emission

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

19 wrz 2019

Data dodania obiektu:

19 wrz 2019

Liczba wyświetleń treści obiektu:

59

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl/publication/140938

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Nazwa wydania Data
Certain effects of field and light induced electron emission from indium thin oxide (ITO) layers 19 wrz 2019

Podobne

Optica Applicata
Optica Applicata

Malter effect in thin ITO films

Olesik, Jadwiga Olesik, Zygmunt Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2009
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Stark effect in He I in extremely high electric field

Windholz, Laurentius Drozdowski, Ryszard Wąsowicz, Tomasz J. Kwela, Jerzy Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja

2006
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Carbon nanotube transparent conductive layers for solar cells applications

Sibiński, Maciej Jakubowska, Małgorzata Znajdek, Katarzyna Słoma, Marcin Guzowski, Bartłomiej Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2011
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Two-dimensional modeling of surface photovoltage in metal/insulator/n-GaN structure with cylindrical symmetry

Matys, Maciej Powroźnik, Paulina Kupka, Dawid Adamowicz, Bogusława Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2013
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

High-energy electron emission from MIS-structures

Olesik, Jadwiga Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja

2002
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Photoreflectance spectroscopy of thick GaN layers grown by hydride vapour phase epitaxy technique

Syperek, Marcin Kudrawiec, Robert Misiewicz, Jan Korbutowicz, Ryszard Paszkiewicz, Regina Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja

2005
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

IR laser operation by chalcogenide glass features

Tsoi, P. Gololobov, N. Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2013
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Doped cap layer effect on impurity-free vacancy enhanced disordering in InGaAs/InP quantum well structures

An, Yu-Peng Wang, Yi-Ding Cao, Feng Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2010
artykuł
Więcej
×

Cytowanie

Styl cytowania:

Dane kontaktowe

Adres

Politechnika Wrocławska (Koordynator Konsorcjum DBC)
Biblioteka Politechniki Wrocławskiej
Wybrzeże Wyspiańskiego 27
50-370 Wrocław, Polska

Telefon

(+48) 71-320-38-30
(+48) 71-320-47-50

E-Mail

bc@pwr.edu.pl

Odwiedź nas!

https://biblioteka.pwr.edu.pl/

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji