Dąbrowska, Elżbieta ; Teodorczyk, Marian ; Szymański, Michał ; Maląg, Andrzej
Optica Applicata, Vol. 50, 2020, nr 4, s. 593-607
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.37190/oa200407 ; oai:dbc.wroc.pl:109549
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 50, 2020 ; Optica Applicata, Vol. 50, 2020, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Apr 12, 2021
Apr 12, 2021
133
https://dbc.wroc.pl/publication/151510
Edition name | Date |
---|---|
Optimization of technology of diode laser mirror processing to maximize the threshold of catastrophic optical degradation | Apr 12, 2021 |
Piwoński, Tomasz Wawer, Dorota Szymański, Michał Ochalski, Tomasz Bugajski, Maciej Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Hajdel, Mateusz Muzioł, Grzegorz Nowakowski-Szkudlarek, Krzesimir Siekacz, Marcin Wolny, Paweł Skierbiszewski, Czesław Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Szymański, Michał Zbroszczyk, Mariusz Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Rakowski, R. Bartnik, A. Fiedorowicz, H. Jarocki, R. Kostecki, J. Krzywiński, J. Mikołajczyk, J. Pina, L. Ryc, L. Szczurek, M. Ticha, H. Wachulak, P. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Holc, Katarzyna Bielecki, Zbigniew Wojtas, Jacek Perlin, Piotr Goss, Jakub Czyżewski, Adam Magryta, Paweł Stacewicz, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Mroczkowski, Mateusz Cież, Michał Kalenik, Jerzy Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Veleschuk, Vitaly Vlasenko, Alexander Kisselyuk, Maxim Vlasenko, Zoya Khmil, Denis Borshch, Vladimir Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Chen, Hsiang Kao, Chyuan-Haur Lu, Tien-Chang Shei, Shih-Chang Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja