Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 3, s. 533-543
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa120309 ; oai:dbc.wroc.pl:55519
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
15 sty 2019
29 lis 2018
73
90
https://dbc.wroc.pl/publication/90551
| Edition name | Date |
|---|---|
| The infrared transmittance model for in-situ monitoring of diamond on quartz deposition process | 15 sty 2019 |
Jaglarz, Janusz Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kosmala, Michał Regiński, Kazimierz Kosiel, Kamil Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Novikov, Alexander F. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kowalczuk, Przemysław B. Akkaya, Candogan Ergun, Mahmut Janicki, Mikołaj Sahbaz, Oktay Drzymała, Jan Drzymała, Jan. Redakcja
Uçurum, Metin Malgir, Eda Deligezen, Hamdi Karaer, Necmettin Avşar, Mustafa Drzymała, Jan. Redakcja
Hu, Zhibo Zheng, Shuilin Li, Jinyu Zhang, Shuaiqian Liu, Min Wang, Zhicheng Li, Jiaxin Sun, Hongjuan
Romanowski, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja
Dobierzewska-Mozrzymas, Ewa Gaj, Miron. Redakcja