Luo, Ningning ; Gao, Yiqing ; Zhimin, Zhang ; Mengchao, Xiao ; Huaming, Wu
Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4, s. 845-852
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa120417 ; oai:dbc.wroc.pl:56630
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
15 sty 2019
5 gru 2018
99
96
https://dbc.wroc.pl/publication/92406
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Three-dimensional microstructures of photoresist formed by gradual gray-scale lithography approach | 15 sty 2019 |
Zhang, Zhimin Gao, Yiqing Luo, Ningning Zhong, Kejun Liu, Zhihuai Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Luo, Ningning Gao, Yiqing Chen, Min Yu, Lixia Ye, Qing Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Nalimov, I. P. Ovechkis, Yu. N. Fedchuk, I. U. Shakirov, A. Kh. Antonov, V. M. Zarutskii, L. P. Gaj, Miron. Redakcja
Goldys, E.M. Drozdowicz-Tomsia, K. Zhu, G. Yu, H. Jinjun, S. Motlan, M. Godlewski, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Magiera, A. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Wilk, Ireneusz Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja