Oleszkiewicz, Waldemar ; Romiszowski, Piotr
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3, s. 495-501
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005 ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
19 wrz 2019
19 wrz 2019
42
https://dbc.wroc.pl/publication/140939
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Computer simulation studies of roughness of thin films formed in the ion beam assisted deposition (IBAD) process | 19 wrz 2019 |
Oleszkiewicz, Waldemar Romiszowski, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Kosobutskyy, Petro Kovalchuk, Andrii Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Gan, K.B. Zahedi, E. Mohd Ali, M.A. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kazlauskas, Karolis Jursenas, Saulius Miasojedovas, Saulius Pobedinskas, Paulius Tamulaitis, Gintautas Zukauskas, Arturas Ivanov, Vitalii Yu. Godlewski, Marek Skierbiszewski, Czesław Siekacz, Marcin Leszczyński, Michał Franssen, Gijs Perlin, Piotr Suski, Tadeusz Grzegory, Izabella Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Mroczka, Janusz Szczepanowski, Remigiusz Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Łukianowicz, Czesław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Gobi, Govindan Sastikumar, Dillibabu Balaji Ganesh, Athi Radhakrishnan, Thotta Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Zhenrong, Zheng Jing, Zhou Peifu, Gu Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja