Obiekt

Tytuł: Computer simulation studies of roughness of thin films formed in the ion beam assisted deposition (IBAD) process

Autor:

Oleszkiewicz, Waldemar ; Romiszowski, Piotr

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja

Opis:

Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3, s. 495-501

Abstrakt:

In this study we present Monte Carlo simulation studies of thin films deposited in the ion beam assisted deposition (IBAD) process. The simulations were performed on a simple cubic lattice with the Metropolis sampling algorithm. Examination of the microstructure and morphology of the simulated film shows that the processes of the surface diffusion of adatoms and the sputtering of the film during its growth as a result of the ion bombardment significantly influence the structure of the deposited layer. The presented simulation model enables one to determine the importance and the influence of these processes on the final structure of the film.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2005

Typ zasobu:

artykuł

Identyfikator zasobu:

oai:dbc.wroc.pl:72838

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005 ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2019-09-19

Data dodania obiektu:

2019-09-19

Liczba wyświetleń treści obiektu:

0

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl/publication/140939

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Obiekty

Podobne

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji