Woźnicka, G. ; Kruszewski, J. ; Gutkowski, M. T.
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 23, 1993, nr 4, s. 275-280
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 23, 1993 ; Optica Applicata, Vol. 23, 1993, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
22 mar 2021
22 mar 2021
7
https://dbc.wroc.pl/publication/64882
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Modelling of the thin-film structure for the purpose of ellipsometric measurements | 22 mar 2021 |
Kruszewski, J. Gutkowski, M. T. Patej, E. J. Wilk, Ireneusz. Redakcja Gaj, Miron. Redakcja
Kruszewski, S. Skonieczny, J. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Dyksik, M. Motyka, M. Rygała, M. Pfenning, A. Hartmann, F. Weih, R. Worschech, L. Höfling, S. Sęk, G. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
He, Zhengrui Jin, Jie Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wu, Yingchun Cheng, Xing Liang, Jie Wang, Anhong Zhao, Xianling Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kovacevic, Milan S. Milosevic, Marko M. Kuzmanovic, Ljubica Djordjevich, Alexandar Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Huang, Zhiru Dai, Qihang Ji, Xiaoling Wang, Tao Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Karitans, Varis Tokmakovs, Andrejs Antonuka, Adele Urbańczyk, Wacław. Redakcja