Luo, Ningning ; Gao, Yiqing ; Chen, Min ; Yu, Lixia ; Ye, Qing
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 1, s. 239-248
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010 ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 23, 2019
Jan 23, 2019
73
https://dbc.wroc.pl/publication/96790
Edition name | Date |
---|---|
Real-time mask-division technique based on DMD digital lithography | Jan 23, 2019 |
Zhang, Zhimin Gao, Yiqing Luo, Ningning Zhong, Kejun Liu, Zhihuai Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Luo, Ningning Gao, Yiqing Zhimin, Zhang Mengchao, Xiao Huaming, Wu
Chen, Yuzhang Li, Wei Xia, Min Li, Qing Yang, Kecheng Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wang, Yawei Zhang, Li Ji, Ying Xu, Yuanyuan Bu, Min Chen, Yingzhou Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Szukalski, Jan Gaj, Miron. Redakcja
Paczóski, Jan Klamer, Bogna Gaj, Miron. Redakcja
Jasny, Jan Płocharski, Stanislaw Gaj, Miron. Redakcja