Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Rakowski, R.; Bartnik, A.; Fiedorowicz, H.; Jarocki, R.; Kostecki, J.; Krzywiński, J.; Mikołajczyk, J.; Pina, L.; Ryc, L.; Szczurek, M.; Ticha, H.; Wachulak, P.

Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Tytuł: Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

6 kwi 2019

Data dodania obiektu:

6 kwi 2019

Liczba wyświetleń treści obiektu:

127

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl/publication/118373

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Optica Applicata

Nazwa wydania	Data
Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target	6 kwi 2019

Obiekt

Tytuł: Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Autor:

Współtwórca:

Opis:

Abstrakt:

Wydawca:

Miejsce wydania:

Data wydania:

Typ zasobu:

Identyfikator zasobu:

Źródło:

Język:

Powiązania:

Prawa:

Prawa dostępu:

Lokalizacja oryginału:

Tytuł publikacji grupowej:

Temat i słowa kluczowe:

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

Data dodania obiektu:

Liczba wyświetleń treści obiektu:

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

Wyświetl opis w formacie RDF:

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

Podobne

podobne w FBC

Cytowanie

Dane kontaktowe

Adres

Telefon

E-Mail

Odwiedź nas!