Tomkiewicz, Paweł ; Kościelniak, Piotr ; Girycki, Adam ; Szuber, Jacek
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3, s. 385-391
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005 ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
13 wrz 2019
13 wrz 2019
55
https://dbc.wroc.pl/publication/140864
Nazwa wydania | Data |
---|---|
High resolution photoemission yield study of the GaAs(100) surface cleaned by atomic hydrogen | 13 wrz 2019 |
Papis, Ewa Barańska, Anna Karbownik, Piotr Szerling, Anna Wójcik-Jedlińska, Anna Bugajski, Maciej Rzodkiewicz, Witold Szade, Jacek Wawro, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Białous, Małgorzata Świtkowski, Krzysztof Kozanecka-Szmigiel, Anna Wierzbicki, Michał Pura, Bronisław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Barańska, Anna Szerling, Anna Karbownik, Piotr Hejduk, Krzysztof Bugajski, Maciej Łaszcz, Adam Gołaszewska-Malec, Krystyna Filipowski, Wojciech Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Sarzała, Robert P. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Bożym, Janusz Dudziak, Eugeniusz Pruchnik, Dariusz Herezo, Krzysztof Wasilewski, Zbigniew R. Gaj, Miron. Redakcja
Prażmowska, Joanna Korbutowicz, Ryszard Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Gislason, Haflidi P. Seghier, Djelloul Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Wang, Yonggang Ma, Xiaoyu Wang, CuiLuan Lin, Tao Zhen, Kai Wang, Jun Zhong, Li Jia, YuLei Wei, ZhiYi Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja