Basta, Marek ; Kuźnicki, Zbigniew T.
Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4, s. 713-724
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 15, 2019
Nov 30, 2018
315
308
https://dbc.wroc.pl/publication/91020
Edition name | Date |
---|---|
Dielectric functions and optical parameters of heavily doped and/or highly excited Si:P | Jan 15, 2019 |
Fitio, Volodymyr Yaremchuk, Iryna Vernyhor, Oleksandr Bobitski, Yaroslav Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Lv, Hui Li, Ziqiang Yang, Tao Huang, Chuyun
Kovacevic, Milan S. Djordjevich, Alexandar Nikezic, Dragoslav Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Śródka, Wiesław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jagoszewski, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stádník, B. Jirásková, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Woźnicka, G. Kruszewski, J. Gutkowski, M. T. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja