Luo, Ningning ; Gao, Yiqing ; Zhimin, Zhang ; Mengchao, Xiao ; Huaming, Wu
Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4, s. 845-852
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa120417 ; oai:dbc.wroc.pl:56630
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
15 sty 2019
5 gru 2018
87
83
https://dbc.wroc.pl/publication/92406
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Three-dimensional microstructures of photoresist formed by gradual gray-scale lithography approach | 15 sty 2019 |
Zhang, Zhimin Gao, Yiqing Luo, Ningning Zhong, Kejun Liu, Zhihuai Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Luo, Ningning Gao, Yiqing Chen, Min Yu, Lixia Ye, Qing Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jagoszewski, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stádník, B. Jirásková, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Woźnicka, G. Kruszewski, J. Gutkowski, M. T. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cotos, J. M. Arias, J. Tobar, A. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Dubik, B. Masajada, Jan Nowak, J. Zając, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja