Luo, Ningning ; Gao, Yiqing ; Chen, Min ; Yu, Lixia ; Ye, Qing
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 1, s. 239-248
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010 ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
23 sty 2019
23 sty 2019
69
https://dbc.wroc.pl/publication/96790
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Real-time mask-division technique based on DMD digital lithography | 23 sty 2019 |
Zhang, Zhimin Gao, Yiqing Luo, Ningning Zhong, Kejun Liu, Zhihuai Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Luo, Ningning Gao, Yiqing Zhimin, Zhang Mengchao, Xiao Huaming, Wu
Chen, Yuzhang Li, Wei Xia, Min Li, Qing Yang, Kecheng Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wang, Yawei Zhang, Li Ji, Ying Xu, Yuanyuan Bu, Min Chen, Yingzhou Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jagoszewski, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stádník, B. Jirásková, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Woźnicka, G. Kruszewski, J. Gutkowski, M. T. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja