Dobrzański, Leszek A. ; Szindler, Marek ; Szindler, Magdalena ; Hajduk, Barbara ; Kotowicz, Sonia
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 4, s. 573-583
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Oct 18, 2017
39
37
https://dbc.wroc.pl/publication/41706
Edition name | Date |
---|---|
The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films | Jan 16, 2019 |
Szindler, Marek Szindler, Magdalena Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Krajewski, Tomasz A. Łuka, Grzegorz Wachnicki, Łukasz Jakieła, Rafał Witkowski, Bartłomiej Guziewicz, Elżbieta Godlewski, Marek Huby, Nolwenn Tallarida, Grazia Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Gierałtowska, Sylwia Wachnicki, Łukasz Witkowski, Bartłomiej S. Godlewski, Marek Guziewicz, Elżbieta Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Chocyk, Dariusz Proszyński, Adam Gładyszewski, Grzegorz Pieńkos, Tomasz Gładyszewski, Longin Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Domaradzki, Jarosław Borkowska, Agnieszka Kaczmarek, Danuta Prociów, Eugeniusz L. Gaj, Miron. Redakcja
Hwang, Kyu-Seog Jeon, Young-Sun Jeon, Kyung-Ok Kim, Byung-Hoon Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Markowski, Piotr Prociów, Eugeniusz Dziedzic, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Domaradzki, Jarosław Borkowska, Agnieszka Kaczmarek, Danuta Prociów, Eugeniusz L. Wasilewski, Radosław Ciszewski, Antoni Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja