Jan 16, 2019
Nov 20, 2018
13
10
https://dbc.wroc.pl/publication/87639
Edition name | Date |
---|---|
Properties of thin films of high-k oxides grown by atomic layer deposition at low temperature for electronic applications | Jan 16, 2019 |
Krajewski, Tomasz A. Łuka, Grzegorz Wachnicki, Łukasz Jakieła, Rafał Witkowski, Bartłomiej Guziewicz, Elżbieta Godlewski, Marek Huby, Nolwenn Tallarida, Grazia Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Witkowski, Bartłomiej Sławomir Wachnicki, Łukasz Nowakowski, Piotr Suchocki, Andrzej Godlewski, Marek Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Dobrzański, Leszek A. Szindler, Marek Szindler, Magdalena Hajduk, Barbara Kotowicz, Sonia Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Godlewski, Marek Gaj, Kazimierz. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Wójcik, Aleksandra Kopalko, Krzysztof Godlewski, Marek Łusakowska, Elżbieta Guziewicz, Elżbieta Minikayev, Roman Paszkowicz, Wojciech Świątek, Krzysztof Klepka, Marcin Jakieła, Rafał Kiecana, Michał Sawicki, Maciej Dybko, Krzysztof Phillips, Matthew R. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Guziewicz, Elżbieta Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Godlewski, Marek Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Abdel-Aal, El-Sayed Ali Rashad, Mohamed M. El-Shazly, Ayat N. Ibrahim, Ibrahim A. El-Shahat, Mohamed F.