Oleszkiewicz, Waldemar ; Markowski, Janusz ; Srnanek, Rudolf ; Kijaszek, Wojciech ; Gryglewicz, Jacek ; Kovac, Jaroslav ; Tłaczała, Marek
Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1, s. 109-115
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa130114 ; oai:dbc.wroc.pl:54014
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013 ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
21 lis 2018
88
82
https://dbc.wroc.pl/publication/87815
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Influence of RF ICP PECVD process parameters of diamond-like carbon films on DC bias and optical emission spectra | 16 sty 2019 |
Kijaszek, Wojciech Oleszkiewicz, Waldemar Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ściana, Beata Radziewicz, Damian Pucicki, Damian Tłaczała, Marek Kováč, Jaroslav Srnanek, Rudolf Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Ramiączek-Krasowska, Maria Szyszka, Adam Prażmowska, Joanna Paszkiewicz, Regina Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ramiączek-Krasowska, Maria Szyszka, Adam Stafiniak, Andrzej Paszkiewicz, Regina Paszkiewicz, Bogdan Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Łozińska, Adriana Badura, Mikołaj Jadczak, Joanna Bielak, Katarzyna Ściana, Beata Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ochalski, Tomasz J. Piwoński, Tomasz Wawer, Dorota Pierściński, Kamil Bugajski, Maciej Kozłowska, Anna Maląg, Andrzej Tomm, Jens W. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Szyszka, Adam Ściana, Beata Radziewicz, Damian Macherzyński, Wojciech Paszkiewicz, Bogdan Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja