Zubel, Irena ; Rola, Krzysztof
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 417-422
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Dec 13, 2018
212
238
https://dbc.wroc.pl/publication/95514
| Edition name | Date |
|---|---|
| Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching | Jan 16, 2019 |
Zubel, Irena Kramkowska, Małgorzata Ninierza, Tomasz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Romanowski, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja
Dobierzewska-Mozrzymas, Ewa Gaj, Miron. Redakcja
Marcinów, Tadeusz Wesołowska, Cecylia Wiktorczyk, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Rattan, R. Gupta, A. K. Singh, K. Gaj, Miron. Redakcja
Kaczmarek, Franciszek Mietlarek, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja
Bissinger, Janusz Raczyński, Krzysztof Gaj, Miron. Redakcja
Pawlikowski, Janusz Marek Majchrowska, Ewa Kochan, Bogdan Gaj, Miron. Redakcja