Object
No title
Resource Identifier:
Format:
Object collections:
- Lower Silesian Digital Library > Participants of the Consortium > 01. Wrocław University of Science and Technology > Journals WUoT > Journals published at Wrocław University of Technology > Optica Applicata
- Lower Silesian Digital Library > Resources > 2. Czasopisma > Czasopisma współczesne
- Lower Silesian Digital Library > Fields of science > 6. Nauki ścisłe i przyrodnicze
Last modified:
Jan 16, 2019
In our library since:
Dec 13, 2018
Number of object content hits:
18
Number of object content views in PDF format
13
All available object's versions:
https://dbc.wroc.pl/publication/95514
Show description in RDF format:
Show description in OAI-PMH format:
| Edition name | Date |
|---|---|
| Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching | Jan 16, 2019 |
Similar
Zubel, Irena Kramkowska, Małgorzata Ninierza, Tomasz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Dyksik, M. Motyka, M. Rygała, M. Pfenning, A. Hartmann, F. Weih, R. Worschech, L. Höfling, S. Sęk, G. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
He, Zhengrui Jin, Jie Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wu, Yingchun Cheng, Xing Liang, Jie Wang, Anhong Zhao, Xianling Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kovacevic, Milan S. Milosevic, Marko M. Kuzmanovic, Ljubica Djordjevich, Alexandar Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Huang, Zhiru Dai, Qihang Ji, Xiaoling Wang, Tao Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Karitans, Varis Tokmakovs, Andrejs Antonuka, Adele Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wang, Yushuang Ji, Xuanxuan Chen, Ziyang Pu, Jixiong Urbańczyk, Wacław. Redakcja
