Guziewicz, Marek ; Grochowski, Jakub ; Borysiewicz, Michał ; Kamińska, Eliana ; Domagała, Jarosław Z. ; Rzodkiewicz, Witold ; Witkowski, Bartłomiej S. ; Gołaszewska, Krystyna ; Kruszka, Renata ; Ekielski, Marek ; Piotrowska, Anna
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 431-440
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Dec 14, 2018
1 259
1264
https://dbc.wroc.pl/publication/95688
Edition name | Date |
---|---|
Electrical and optical properties of NiO films deposited by magnetron sputtering | Jan 16, 2019 |
Mickevicius, Sigitas Grebinskij, Sergej Bondarenka, Vladimiras Tvardauskas, Henrikas Vengalis, Bonifacas Sliuziene, Kristina Orlowski, Bronislaw A. Drube, Wolfgang Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Zdyb, Agata Krawczak, Ewelina Lichograj, Piotr Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Sibiński, Maciej Jakubowska, Małgorzata Znajdek, Katarzyna Słoma, Marcin Guzowski, Bartłomiej Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wang, Biao Hu, LiMing Liu, FengMin Qin, Li Liu, Yun Wang, Lijun Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Song, Zhenyu Fu, Qiang Li, Lei Li, Li An, Yupeng Wang, Yiding Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Gierałtowska, Sylwia Wachnicki, Łukasz Witkowski, Bartłomiej S. Godlewski, Marek Guziewicz, Elżbieta Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ulatowska-Jarża, Agnieszka Hołowacz, Iwona Wysocka, Katarzyna Podbielska, Halina Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Rzodkiewicz, Witold Borowicz, Lech Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja