Yiyong, Liang ; Guoguang, Yang
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2, s. 399-404
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008 ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
22 mar 2019
22 mar 2019
251
https://dbc.wroc.pl/publication/114239
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Linewidth control by overexposure in laser lithography | 22 mar 2019 |
Marczak, Jan Kusiński, Jan Major, Roman Rycyk, Antoni Sarzyński, Antoni Strzelec, Marek Czyż, Krzysztof Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Hariri, A. Sarikhani, S. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Liang, Yiyong Sun, Rong Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Szukalski, Jan Gaj, Miron. Redakcja
Paczóski, Jan Klamer, Bogna Gaj, Miron. Redakcja
Jasny, Jan Płocharski, Stanislaw Gaj, Miron. Redakcja
Bilewicz, Zygmunt Gaj, Miron. Redakcja