Object
Title: Linewidth control by overexposure in laser lithography
Creator:
Yiyong, Liang ; Guoguang, Yang
Contributor:
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Description:
Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2, s. 399-404
Abstrakt:
Publisher:
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Place of publication:
Date:
Resource Type:
Resource Identifier:
Source:
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Language:
Relation:
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008 ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Rights:
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Access Rights:
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Location:
Group publication title:
Object collections:
- Lower Silesian Digital Library > Participants of the Consortium > 01. Wrocław University of Science and Technology > Journals WUoT > Journals published at Wrocław University of Technology > Optica Applicata
- Lower Silesian Digital Library > Resources > 2. Czasopisma > Czasopisma współczesne
- Lower Silesian Digital Library > Fields of science > 6. Nauki ścisłe i przyrodnicze
Last modified:
Mar 22, 2019
In our library since:
Mar 22, 2019
Number of object content hits:
249
All available object's versions:
https://dbc.wroc.pl/publication/114239
Show description in RDF format:
Show description in OAI-PMH format:
| Edition name | Date |
|---|---|
| Linewidth control by overexposure in laser lithography | Mar 22, 2019 |
Similar
Marczak, Jan Kusiński, Jan Major, Roman Rycyk, Antoni Sarzyński, Antoni Strzelec, Marek Czyż, Krzysztof Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Hariri, A. Sarikhani, S. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Liang, Yiyong Sun, Rong Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Szukalski, Jan Gaj, Miron. Redakcja
Paczóski, Jan Klamer, Bogna Gaj, Miron. Redakcja
Jasny, Jan Płocharski, Stanislaw Gaj, Miron. Redakcja
Bilewicz, Zygmunt Gaj, Miron. Redakcja
