Obiekt
Tytuł: Linewidth control by overexposure in laser lithography
Autor:
Yiyong, Liang ; Guoguang, Yang
Współtwórca:
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Opis:
Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2, s. 399-404
Abstrakt:
Wydawca:
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Miejsce wydania:
Data wydania:
Typ zasobu:
Identyfikator zasobu:
Źródło:
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Język:
Powiązania:
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008 ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Prawa dostępu:
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Lokalizacja oryginału:
Tytuł publikacji grupowej:
Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:
- Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa > Uczestnicy Konsorcjum > 01. Politechnika Wrocławska > Czasopisma > Wydane w PWr > Optica Applicata
- Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa > Zasoby > 2. Czasopisma > Czasopisma współczesne
- Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa > Dziedziny nauki > 6. Nauki ścisłe i przyrodnicze
Data ostatniej modyfikacji:
22 mar 2019
Data dodania obiektu:
22 mar 2019
Liczba wyświetleń treści obiektu:
273
Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:
https://dbc.wroc.pl/publication/114239
Wyświetl opis w formacie RDF:
Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Linewidth control by overexposure in laser lithography | 22 mar 2019 |
Podobne
Marczak, Jan Kusiński, Jan Major, Roman Rycyk, Antoni Sarzyński, Antoni Strzelec, Marek Czyż, Krzysztof Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Hariri, A. Sarikhani, S. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Liang, Yiyong Sun, Rong Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Litwin, D. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Kaps, Ch. Schubert, R. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Antropova, Tatiana V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
