Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 339-346
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Apr 4, 2018
181
213
https://dbc.wroc.pl/publication/44820
| Edition name | Date |
|---|---|
| Plasma dry etching of monocrystalline silicon for the microsystem technology | Jan 16, 2019 |
Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja
Grzebyk, Tomasz Stasiak, Paweł Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Górecka-Drzazga, Anna Dembicka-Jellonkowa, Stanisława. Promotor
Goldys, E.M. Drozdowicz-Tomsia, K. Zhu, G. Yu, H. Jinjun, S. Motlan, M. Godlewski, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stefaniak, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Dubik, Bogusława Gaj, Miron. Redakcja