Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 339-346
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
4 kwi 2018
40
35
https://dbc.wroc.pl/publication/44820
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Plasma dry etching of monocrystalline silicon for the microsystem technology | 16 sty 2019 |
Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja
Grzebyk, Tomasz Stasiak, Paweł Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jagoszewski, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stádník, B. Jirásková, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Woźnicka, G. Kruszewski, J. Gutkowski, M. T. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cotos, J. M. Arias, J. Tobar, A. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Dubik, B. Masajada, Jan Nowak, J. Zając, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja