Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 339-346
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
4 kwi 2018
56
56
https://dbc.wroc.pl/publication/44820
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Plasma dry etching of monocrystalline silicon for the microsystem technology | 16 sty 2019 |
Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja
Grzebyk, Tomasz Stasiak, Paweł Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Szukalski, Jan Gaj, Miron. Redakcja
Paczóski, Jan Klamer, Bogna Gaj, Miron. Redakcja
Jasny, Jan Płocharski, Stanislaw Gaj, Miron. Redakcja
Bilewicz, Zygmunt Gaj, Miron. Redakcja
Bogdanienko-Jakubicz, Anna Hałaciński, Bogumił Gaj, Miron. Redakcja