Obiekt

Tytuł: Properties of thin films of high-k oxides grown by atomic layer deposition at low temperature for electronic applications

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2019-01-16

Data dodania obiektu:

2018-11-20

Liczba wyświetleń treści obiektu:

7

Liczba wyświetleń treści obiektu w formacie PDF

6

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl/publication/87639

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Podobne

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji