Obiekt

Tytuł: Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

16 sty 2019

Data dodania obiektu:

13 gru 2018

Liczba wyświetleń treści obiektu:

117

Liczba wyświetleń treści obiektu w formacie PDF

120

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl/publication/95514

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Podobne

×

Cytowanie

Styl cytowania:

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji