Zubel, Irena ; Rola, Krzysztof
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 417-422
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
13 gru 2018
109
111
https://dbc.wroc.pl/publication/95514
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching | 16 sty 2019 |
Zubel, Irena Kramkowska, Małgorzata Ninierza, Tomasz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Szukalski, Jan Gaj, Miron. Redakcja
Paczóski, Jan Klamer, Bogna Gaj, Miron. Redakcja
Jasny, Jan Płocharski, Stanislaw Gaj, Miron. Redakcja
Bilewicz, Zygmunt Gaj, Miron. Redakcja
Bogdanienko-Jakubicz, Anna Hałaciński, Bogumił Gaj, Miron. Redakcja
Plokarz, Halina Ratajczyk, Florian Lisowska, Barbara Gaj, Miron. Redakcja