Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 933-941
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Mar 15, 2019
Mar 15, 2019
44
https://dbc.wroc.pl/publication/112208
Edition name | Date |
---|---|
The influence of the electrical field on structures dimension measurement in electrostatic force microscopy mode | Mar 15, 2019 |
Sikora, Andrzej Janus, Paweł Sierakowski, Andrzej Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Gotszalk, Teodor P. Janus, Paweł Marendziak, Andrzej Szeloch, Roman F. Gaj, Miron. Redakcja
Szyszka, Adam Ściana, Beata Radziewicz, Damian Macherzyński, Wojciech Paszkiewicz, Bogdan Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kucharska, Barbara Kulej, Edyta Kanak, Jarosław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kołodziej, Andrzej Baranowski, Witold Kusior, Edward Kanak, Jarosław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Dośpiał, Marcin Nabiałek, Marcin Szota, Michał Michta, Łukasz Wieczorek, Paweł Błoch, Katarzyna Pietrusiewicz, Paweł Oźga, Katarzyna Michalczyk, Jacek Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jasik, Agata Sass, Jerzy Mazur, Krystyna Wesołowski, Marek Gaj, Miron. Redakcja
Sikora, Andrzej Urbańczyk, Wacław. Redakcja