Obiekt

Tytuł: Photoluminescence study of Nd3+-doped Si-rich silica films

Autor:

Breard, David ; Gourbilleau, Fabrice ; Belarouci, Ali ; Dufour, Christian ; Rizk, Richard

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja

Opis:

Optica Applicata, Vol. 36, 2006, nr 2-3, s. 187-192

Abstrakt:

Nd3+-doped silicon-rich silicon oxide thin films have been fabricated by reactive magnetron co-sputtering of a pure silica target topped with Nd2O3 chips. The incorporation of silicon excess in the films has been controlled by the hydrogen partial pressure PH2 introduced in the plasma. Photoluminescence experiments have been made at room temperature using a non resonant excitation with Nd3+ ions. The influences of Nd3+ content and PH2 have been studied to improve the Nd3+ emission. Photoluminescence spectra reveal an enhancement of the Nd3+ emission at 0.9 mm and 1.1 mm when silicon nanoclusters and Nd3+ are embedded in a SiO2 matrix.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2006

Typ zasobu:

artykuł

Identyfikator zasobu:

oai:dbc.wroc.pl:63571

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 36, 2006 ; Optica Applicata, Vol. 36, 2006, nr 2-3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2019-04-03

Data dodania obiektu:

2019-04-03

Liczba wyświetleń treści obiektu:

4

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl/publication/117541

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Obiekty

Podobne

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji