Zubel, Irena ; Kramkowska, Małgorzata ; Ninierza, Tomasz
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 749-759
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
12 mar 2019
12 mar 2019
39
https://dbc.wroc.pl/publication/110838
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Methods of silicon surface structurization for the purpose of the deposition of III-V epitaxial layers | 12 mar 2019 |
Zubel, Irena Rola, Krzysztof Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Nalimov, I. P. Ovechkis, Yu. N. Fedchuk, I. U. Shakirov, A. Kh. Antonov, V. M. Zarutskii, L. P. Gaj, Miron. Redakcja
Goldys, E.M. Drozdowicz-Tomsia, K. Zhu, G. Yu, H. Jinjun, S. Motlan, M. Godlewski, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Magiera, A. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Wilk, Ireneusz Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja