Wyszukiwanie zaawansowane ?

Obiekt

Investigation of the topography of magnetron-deposited Cu/Ni multilayers by X-ray reflectometry and atomic force microscopy
Pobierz

Tytuł: Investigation of the topography of magnetron-deposited Cu/Ni multilayers by X-ray reflectometry and atomic force microscopy

Autor:

Kucharska, Barbara ; Kulej, Edyta ; Kanak, Jarosław

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Opis:

Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 881-888

Abstrakt:

This paper presents the results of research of Cu/Ni multilayers magnetron-deposited on an Si (100) substrate. The thickness of Cu sublayers was identical in all multilayers and equalled 2 nm. The thickness of Ni sublayers varied between 1.2 and 3.0 nm. The surface topography of the multilayers was examined using the AFM (research of different areas). The interface roughness and period thickness were characterized by X-ray reflectometry (XRR). The roughness of the multilayers achieved by the XRR method was very similar for all 0.6 nm samples examined. However, the values of the roughness parameter Ra obtained by AFM examination were in the range of 0.09–0.32 nm, and depended on the size of the area examined. Based on the function obtained from the AFM measurements, taken on surface areas varying in size, an area of 1.5–4.0 cm2 was determined, for which an agreement between the roughness parameter, as determined by the AFM method, and the XRR method results would be expected.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2009

Typ zasobu:

artykuł

Identyfikator zasobu:

oai:dbc.wroc.pl:62698

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Temat i słowa kluczowe:

optyka multilayers Cu/Ni X-ray reflectometry (XRR) atomic force microscopy (AFM) roughness

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

15 mar 2019

Data dodania obiektu:

15 mar 2019

Liczba wyświetleń treści obiektu:

41

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl/publication/112038

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Nazwa wydania Data
Investigation of the topography of magnetron-deposited Cu/Ni multilayers by X-ray reflectometry and atomic force microscopy 15 mar 2019

Obiekty Podobne

Optica Applicata
Optica Applicata
X-ray, AFM, UV–VIS–IR analysis of a-Si:H/μc-Si:H supperlattice structure

Kołodziej, Andrzej Baranowski, Witold Kusior, Edward Kanak, Jarosław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2011
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata
Uncertainty of atomic force microscopy measurements

Gotszalk, Teodor P. Janus, Paweł Marendziak, Andrzej Szeloch, Roman F. Gaj, Miron. Redakcja

2007
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata
The impact of the light exposure on the morphological properties of selected photoresists

Sikora, Andrzej Janus, Paweł Sierakowski, Andrzej Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2019
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata
The influence of the electrical field on structures dimension measurement in electrostatic force microscopy mode

Sikora, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2009
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata
Characterization of AIIIBV epitaxial layers by scanning spreading resistance microscopy

Szyszka, Adam Ściana, Beata Radziewicz, Damian Macherzyński, Wojciech Paszkiewicz, Bogdan Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2011
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata
The MFM studies of the surface domain structure of Sm–Fe–Co–Zr–Cu thin ribbons

Dośpiał, Marcin Nabiałek, Marcin Szota, Michał Michta, Łukasz Wieczorek, Paweł Błoch, Katarzyna Pietrusiewicz, Paweł Oźga, Katarzyna Michalczyk, Jacek Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2013
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata
Thermal stability of the Cu/Ni multilayer system in X-ray diffraction and scanning microscopy examinations

Kucharska, Barbara Kulej, Edyta Wróbel, Anna

2012
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata
Investigation of strained InGaAs layers on GaAs substrate

Jasik, Agata Sass, Jerzy Mazur, Krystyna Wesołowski, Marek Gaj, Miron. Redakcja

2007
artykuł
Więcej
×

Cytowanie

Styl cytowania:

Dane kontaktowe

Adres

Politechnika Wrocławska (Koordynator Konsorcjum DBC)
Biblioteka Politechniki Wrocławskiej
Wybrzeże Wyspiańskiego 27
50-370 Wrocław, Polska

Telefon

(+48) 71-320-38-30
(+48) 71-320-47-50

E-Mail

bc@pwr.edu.pl

Odwiedź nas!

https://biblioteka.pwr.edu.pl/

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji